Современные технологии невозможно представить без влияния компании ASML, хотя большинство людей о ней не слышали. Литографические машины этого голландского гиганта играют ключевую роль в производстве современных чипов. Однако на горизонте появилась новая американская компания, способная бросить вызов этой монополии. Стартап Substrate намерен создать литографические машины, использующие альтернативные принципы. Вместо экстремального ультрафиолетового излучения, как в оборудовании ASML, они планируют применять коротковолновое рентгеновское излучение, полученное с помощью ускорителей частиц. Substrate уже собрал 100 миллионов долларов от инвесторов, включая Founders Fund, и оценен в 1 миллиард долларов. По словам разработчиков, новая технология позволит значительно снизить затраты на литографию чипов и обеспечить более надежную печать, используя волны с длиной менее 13,5 нм.