Японская компания Canon в прошлом году передала Intel первую установку для разработки чипов методом нанопечати. Эта инновационная технология призвана снизить затраты на оборудование при производстве 5-нм чипов и существенно сократить потребление электроэнергии. Недавно компания DNP анонсировала материал для создания 1,4-нм чипов с использованием аналогичного метода. Как сообщает Nikkei Asian Review, DNP разработала специализированные матрицы для формовки рисунков на кремниевых пластинах, что позволит эффективно производить полупроводниковые чипы. В 2027 году DNP планирует запустить массовое производство этих расходных материалов, которые в сочетании с оборудованием Canon помогут достичь значительного снижения потребления энергии — до 90 % по сравнению с традиционными методами. Интерес к технологии проявляют такие компании, как Samsung Electronics, TSMC и Micron Technology, однако переход на новые технологии требует уверенности в их перспективах. Canon и Nikon ранее доминировали в этой области, но сейчас уступили лидерство компании ASML, контролирующей 90 % рынка литографического оборудования.