Китайская полупроводниковая отрасль разработала способ обхода западных экспортных ограничений, модернизируя старые литографические сканеры ASML с глубоким ультрафиолетом (DUV). Это позволяет эффективно использовать легально приобретенное оборудование, подчеркивая пробелы в нормативных актах, направленных на замедление технологического прогресса Китая. Запрет на продажу передового оборудования EUV и ограничение последнего поколения DUV побуждают китайские заводы работать на устаревших моделях, таких как ASML Twinscan NXT:1980i. В результате, производители смогли наладить выпуск 7‑нм чипов, подходящих для современных AI-ускорителей. Китайские заводы приобретают улучшенные компоненты на вторичном рынке, что позволяет повысить производительность и качество продукции без нарушения экспортных правил. Ведущие компании, такие как SMIC и Huawei, reportedly используют старые инструменты ASML для производства современных чипов. Несмотря на ограничения, прогресс в производстве показывает, что экспортный контроль замедляет, но не останавливает развитие Китая в этой области.